Micropolvo de carburo de silicio verde para pulido de obleas

$3,000.00 /MT

El polvo de carburo de silicio (SiC) verde, utilizado en el pulido de obleas de semiconductores, es un material clave. Se utiliza ampliamente en procesos de pulido de precisión gracias a su alta dureza y excelente estabilidad química y térmica.

1. Características del carburo de silicio verde

—Alta dureza (dureza Mohs 9.2): solo superada por el diamante y el nitruro de boro cúbico, adecuada para procesar materiales duros (como silicio, obleas de carburo de silicio).

—Inercia química: no reacciona con ácidos y álcalis a temperatura ambiente para evitar la contaminación de la superficie de la oblea.

—Estabilidad térmica: aún puede mantener el rendimiento a altas temperaturas, adecuado para pulido de alta velocidad.

–Forma de partícula afilada: proporciona una capacidad de corte eficiente, pero es necesario controlar la uniformidad de las partículas para evitar rayones.

ANÁLISIS QUÍMICO TÍPICO
Sic≥99,05%
SiO2≤0,20%
F,Si≤0,03%
Fe2O3≤0,10%
FC≤0,04%
PROPIEDADES FÍSICAS TÍPICAS
Dureza:Mohs: 9.5
Punto de fusión:Sublimes a 2600 ℃
Temperatura máxima de servicio:1900℃
Peso específico:3,20-3,25 g/cm3
Densidad aparente (LPD):1,2-1,6 g/cm3
Color:Verde
Forma de la partícula:Hexagonal

2. Aplicación en el pulido de semiconductores

—Etapa de pulido grueso: se utiliza para eliminar defectos más grandes o rastros de procesamiento en la superficie de la oblea (como capas dañadas después de cortar y pulir).

—Pulido de obleas de carburo de silicio (SiC): el carburo de silicio verde coincide con la dureza de los materiales de las obleas de SiC para reducir el daño a la superficie.

—Aplicaciones auxiliares: se utiliza para pulir materiales duros y quebradizos como sustratos de zafiro y vidrio óptico.

3. Requisitos clave de calidad
—Distribución del tamaño de partículas: debe ser muy uniforme (como D50 1–5 μm) para evitar rayones causados ​​por partículas grandes.

—Pureza: alta pureza (≥99,9%) para reducir la contaminación por impurezas metálicas (como Fe, Al).

—Morfología de la partícula: debe ser esférica o equiárea para reducir la rugosidad de la superficie.

—Suspensión: dispersión estable en el líquido de pulido para evitar la sedimentación.

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